美国科技媒体：中国正在以10年的低效率开发独立设备，以换取光刻机领域的独立性和独立性，以换取这种高风险方法

散英魂送千万雄鹰翱翔神州，美国媒体

尽智魄载十亿慧芯呼唤中国

01。科技开

前沿导读。中国正年纳夫txt下载

根据美国科技媒体Tom's Hardware发布的低独立独立独立消息称：

随着美国制裁的逐步收缩，中国获得ASML先进EUV光刻机的效率性和性换险方希望渺茫，因此中国企业专注于渗透式DUV光刻机。设备中国企业正试图完成国内渗透设备的光刻高风开发，并依靠多种图案技术来制造国内先进芯片。机领

ASML现任首席执行官克里斯托夫·富凯在接受彭博社采访时表示，取种中国的美国媒体光刻机行业落后世界10到15年，但美国的科技开纳夫txt下载制裁正在加速中国的发展。

DUV设备已成为中国的中国正年突破，但先进DUV的低独立独立独立研发将使中国企业陷入约10年的低效时期。用10年的效率性和性换险方工业效率换取光刻机领域的独立性对中国企业来说是一个非常危险的挑战。

参考资料： China bets on 设备DUV as EUV blockade reshapes chipmaking https://www.tomshardware.com/tech-industry/semiconductors/china-bets-on-duv-as-euv-blockade-reshapes-chipmaking。

02.

技术追赶。

对于荷兰ASMLNXT系列EUV光刻机，所有产品均无法交付给中国大陆企业。

这些产品是单次曝光制造7nm及以下芯片的核心设备。中芯国际首席执行官梁孟松在会议报告中表示，中国企业已经完成了7nm技术开发，但需要EUV设备进行测试。如果EUV设备继续被封锁，请尝试使用其他技术 。

ASML首席财务官罗杰·达森在公司财务报告中表示，ASML在2023年向中国大陆企业交付了许多不受美国限制的DUV光刻机。这些设备是几年前中国企业下的订单，采购的中国企业是符合美国和荷兰出口条例的成熟芯片制造商。

参考资料： ASML Q4 2023 - Financial results | ASML https://www.asml.com/en/investors/financial-results/q4-2023。

EUV光刻机是最复杂的精密设备之一，内部部件数十万，美国企业提供的部件数千个，总价超过1.5亿美元。

EUV设备可以单次曝光制造7nm及以下的先进芯片，这是DUV光刻机无法达到的效果，因此EUV设备已成为先进芯片制造商的首选。

DUV光刻机的应用时间比EUV早20多年。先进的渗透式DUV光刻机可以单次曝光制造28nm芯片，7nm芯片可以通过多种图案技术制造，但其成本、能效和产量都会大幅波动。

英特尔曾使用ASML浸润式DUV光刻机和多种图案技术，制造金属间距约30nm的10nm先进芯片，其整体特性相当于台积电的7nm。虽然英特尔成功制造了先进芯片，但其能效和产能都达不到合格水平，成本投入与市场化效果不成正比。

英特尔和台积电已经验证了该技术的可行性，这也给了中国大陆企业制造先进芯片的机会。

03。

技术瓶颈。

华为新麒麟芯片的推出成功表明，中国大陆企业已经通过上述方法生产和批量生产了先进芯片。虽然这些芯片可以搭载到手机产品中，但其整体能效和性能都比台积电制造的产品差。

如今，中国企业手中的光刻机几乎都来自几年前从ASML囤积起来的浸润式设备。

多种图案技术将消耗更多的晶圆资源，并需要高精度的蚀刻机和测量设备进行辅助制造。先进芯片采用浸润式设备制造，其综合成本远高于EUV设备。

即使中国企业遇到各种困难，同时承担着高昂的制造成本，但幸运的是，值得解决先进芯片的供应问题。先解决一些问题，再解决好不好用的问题。

尽管EUV光刻机是制造先进芯片的核心设备，但DUV光刻机也是必不可少的设备。

根据ASML的官方行业报告，

即使是EUV光刻机制造的芯片，其内部的许多关键层也采用了DUV技术。DUV和EUV从来都不是替代关系，而是面向两个领域的产品，都有不可替代的理念和原则。

美国对中国的封锁是零和博弈的竞争。要么拥抱全球化体系，使用先进的进口光刻机。要么自力更生，想办法开发自己的光刻机设备，走国产化路线。

然而，美国的制裁封锁相当于直接切断了中国走全球化体系的道路。美国先封锁EUV，再封锁DUV，那么中国企业自然会把目光转向自己的设备制造商，走上另一条国产化技术之路。

尽管国产化道路将面临多年的低效期，但每一个发展阶段，都离自力更生、自强不息又近了一步。对于现在和未来的中国芯片行业来说，自力更生和自我完善是主要目标和长期目标。

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